Chemické naparovanie volfrámu a silikátov volfrámu pre aplikácie Vlsi/ ULSI

Pôvodný názov:

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for Vlsi/ ULSI Applications

Obsah knihy:

Táto monografia zhŕňa relevantnú a relevantnú literatúru o plošnej a selektívnej CVD volfrámu (W) do jedného zväzku.

Kniha poskytuje čitateľovi potrebné podklady na zavedenie, vyladenie a úspešné udržiavanie procesu CVD-W vo výrobnom zariadení. Opisuje sa chémia depozície materiálov, zariadenia, technológia procesov, vývoj a aplikácie.